femtoBond - Photoresiste
femtoBond® ist unsere Produktserie einzigartiger Fotoresists für 2D- und 3D-Lithographie Techniken wie die Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP).
femtoBond® 4B
...ist unser bewährter Photoresist für Verwendung mit nahinfraroten Lasern z.B. um 800 nm.
femtoBond® 4C
...ist unser bewährter Photoresist für Verwendung mit grünem Laserlicht z.B. um 520 nm.
Vorteile:
- Negativ-Photoresist
- Höchste Auflösung
- Einfache Verarbeitung
- Robust in der Prozessierung
- Sehr geringer Schrumpf
- Biokompatibel
- Transparent im polymerisierten Zustand
- Echter 2PP-Resist, kaum durch Tageslicht beeinflusst
- Organisch-anorganisches Hybridmaterial